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產品簡介
氫氧化鋁水性漿料分散機，是由膠體磨和分散機組合而成的設備，轉速高達14000rpm，強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設計的優勢在于，粒子細化之后容易出現絮凝現象，所以此時分散十分重要，而砂磨機難以分散。
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ARTICLES一、產品名稱：氫氧化鋁水性漿料分散機,氫氧化鋁水性漿料高速分散機,氫氧化鋁水性漿料納米分散機,氫氧化鋁水性漿料超細分散機,氫氧化鋁漿料分散機
詢價和技術問題請來電：李 （） 公司有樣機可供客戶購前實驗，歡迎廣大客戶來我司參觀指導。
二、氫氧化鋁的核心應用
氫氧化鋁是用量zui大和應用zui廣的無機阻燃添加劑。氫氧化鋁作為阻燃劑不僅能阻燃，而且可以防止發煙、不產生滴下物、不產生有毒體，因此，獲得較廣泛的應用，使用量也在逐年增加。使用范圍：熱固性塑料、熱塑性塑料、合成橡膠、涂料及建材等行業。同時，氫氧化鋁也是電解鋁行業所必需氟化鋁的基礎原料，在該行業氫氧化鋁也是得到非常廣泛應用。
三、氫氧化鋁水性漿料簡介
氫氧化鋁水性漿料，將氫氧化鋁粉末加入中水性，然后通過分散設備均勻穩定的分散后，得到高質量的氫氧化鋁水性漿料，可廣泛用于阻燃劑行業。
四、氫氧化鋁水性漿料分散設備推薦
結合多家化工企業案例，我司推薦GMSD2000系列研磨式超高速分散機進行氫氧化鋁的研磨和分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為2μm左右。當然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態。
下圖為氫氧化鋁分散后的粒徑分布，分散介質為水。供參考！
五、SGN氫氧化鋁水性漿料分散機結構
，是由膠體磨和分散機組合而成的設備，轉速高達14000rpm，強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設計的優勢在于，粒子細化之后容易出現絮凝現象，所以此時分散十分重要，而砂磨機難以分散。
GMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。
六、選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125
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