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          產(chǎn)品中心

          PRODUCTS CNTER

          當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心膠體磨高剪切膠體磨GMSD2000隔膜分散高速納米膠體磨

          隔膜分散高速納米膠體磨

          產(chǎn)品簡介

          隔膜分散高速納米膠體磨,研發(fā)出了二者相結(jié)合的研磨分散機(jī),其磨頭結(jié)構(gòu)采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉(zhuǎn)子部分間隙理論上能夠?qū)崿F(xiàn)無限接近,再配合超高轉(zhuǎn)速,當(dāng)顆粒進(jìn)入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。

          產(chǎn)品型號:GMSD2000
          更新時間:2025-08-04
          廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
          訪問量:247
          詳細(xì)介紹在線留言

          隔膜分散高速納米膠體磨,制作電池隔膜的分散工藝有以下要求:

           均勻分散 :隔膜材料中的各種組分需要均勻分散,以確保隔膜的性能一致性和穩(wěn)定性。

           控制孔徑和孔隙率 :隔膜的孔徑和孔隙率對電池性能有重要影響。孔徑需要均勻且適中,以保證鋰離子的順利通過和防止正負(fù)極短路。

           保持材料的完整性 :在分散過程中,要避免材料的過度剪切和破壞,以保持隔膜材料的完整性和力學(xué)性能。

           避免雜質(zhì)引入 :分散工藝需要在潔凈的環(huán)境中進(jìn)行,以防止雜質(zhì)的引入,影響隔膜的性能和電池的安全性。

           能耗和成本控制 :在保證隔膜性能的同時,還需要考慮分散工藝的能耗和成本,以實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)效益。

          隔膜分散高速納米膠體磨


          思峻在傳統(tǒng)膠體磨與均質(zhì)機(jī)的基礎(chǔ)上,研發(fā)出了二者相結(jié)合的研磨分散機(jī),其磨頭結(jié)構(gòu)采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉(zhuǎn)子部分間隙理論上能夠?qū)崿F(xiàn)無限接近,再配合15000RPM的超高轉(zhuǎn)速,當(dāng)顆粒進(jìn)入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來后進(jìn)入分散盤腔內(nèi),根據(jù)物料的特性及處理量的要求,提供2G4M6F8SF不同規(guī)格的斜齒,對磨細(xì)的顆粒進(jìn)行二次剪切和分散,防止顆粒抱團(tuán)。

          隔膜分散高速納米膠體磨


          高速研磨分散機(jī), 線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形,具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,通過高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。


          模塊化設(shè)計的主要特點(diǎn)如下:

          -直立式腔體結(jié)構(gòu),物料可以全部進(jìn)入分散腔;

          -良好的表面處理;

          -符合CIP/SIP的清洗要求;

          -低噪音;

          -所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316

          -小試、中試到量產(chǎn),平穩(wěn)過渡;

          -僅需簡單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求;

          -衛(wèi)生設(shè)計,適合食品及制藥行業(yè);

          -可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求。



          隔膜分散高速納米膠體磨型號表:

           

          研磨分散機(jī)

          流量*

          輸出

          線速度

          功率

          入口/出口連接

          類型

          l/h

          rpm

          m/s

          kW


          GMSD2000/4

          400

          14,000

          44

          4

          DN25/DN15

          GMSD2000/5

          1000

          10,050

          44

          11

          DN40/DN32

          GMSD2000/10

          3000

          7,500

          44

          22

          DN80/DN65

          GMSD2000/20

          8000

          4,900

          44

          45

          DN80/DN65

          GMSD2000/30

          20000

          2,850

          44

          90

          DN150/DN125

          GMSD2000/50

          60000

          1,100

          44

          110

          DN200/DN150

          *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。




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