高速涂料二氧化硅分散機

產(chǎn)品簡介

高速涂料二氧化硅分散機是一種用于將二氧化硅均勻分散在涂料中的設(shè)備，其目的是確保二氧化硅在涂料體系中達到良好的分散效果，從而提升涂料的性能。

產(chǎn)品型號：GRS2000

更新時間：2025-09-23

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品展示

PRODUCT CATEGORY

分散機

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高速涂料二氧化硅分散機

納米二氧化硅分散在多個領(lǐng)域都有著重要的應用，如：改性樹脂，改性紡織材料，改性涂料，改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果，粒徑越小分散越均勻，分散效果就越好。SID研磨分散機獨特的結(jié)構(gòu)，全新的技術(shù)，專業(yè)應對于納米級物料的分散，先研磨后分散，避免團聚，分散效果好。

對于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點，納米分散存在著難以解決的問題，納米物料分散到流體物質(zhì)當中容易形成二級團聚體，導致物料粒徑變大，難以分散。面對這種情況，SID研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機，應對納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實例，如納米級白炭黑的分散，納米級石墨烯的分散，都在使用SID研磨分散機進行分散處理，效果xian著。

高速涂料二氧化硅分散機

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

SID 納米研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。

高速涂料二氧化硅分散機

GMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

高速涂料二氧化硅分散機設(shè)備型號參數(shù)表：

標準流量		輸出轉(zhuǎn)速	標準線速度	馬達功率
L/H		rpm	m/s	KW
GRS2000/4	300	14000	44	4	DN25	DN15
GRS2000/5	1500	10500	44	11	DN40	DN32
GRS2000/10	3000	7500	44	22	DN50	DN50
GRS2000/20	20000	4900	44	45	DN80	DN65
GRS2000/30	40000	2850	44	75	DN150	DN125
GRS2000/50	60000	2000	44	160	DN200	DN150