納米小型真空均質機

產品簡介

納米小型真空均質機是適配實驗室研發的緊湊型設備，由真空系統與高剪切均質機組合而成。通過真空環境消除泡沫、隔絕空氣，配合高速定轉子產生強剪切力，實現物料納米級細化與均勻分散?？赡M量產參數，廣泛用于醫藥、食品等領域的小試與中試驗證。

產品型號：GRS2000

更新時間：2025-11-03

廠商性質：生產廠家

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納米小型真空均質機

均質機可以有效的消除均質過程中泡沫，可以是物料均質的更che底；真空均質機也可以用于一些不易于空氣接觸的物料（易燃易爆），規避風險，提高生產的安全性。

均質機是由真空系統和均質機組成，一個真空罐體和管線式均質機相結合，真空罐內可以根據物料的粘稠度來配置相應的攪拌機（普通攪拌或者刮壁攪拌），小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為GR2000/4高剪切均質機，是一款小試和中試的理想均質設備，GR2000/4設備轉速高達9000rpm，三級工作頭，采用德國博格曼雙端面機械密封，均質效果jue佳。

納米小型真空均質機

影響均質均質結果的因素有以下幾點

1 均質頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）

2 均質頭的剪切速率（越大，效果越好）

3 均質頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4 物料在均質墻體的停留時間，均質均質時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

納米小型真空均質機

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)

g 定-轉子間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。

SID 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60

納米小型真空均質機設備選型表:

標準流量		輸出轉速	標準線速度	馬達功率
L/H		rpm	m/s	KW
GRS2000/4	300	14000	44	4	DN25	DN15
GRS2000/5	1500	10500	44	11	DN40	DN32
GRS2000/10	3000	7500	44	22	DN50	DN50
GRS2000/20	20000	4900	44	45	DN80	DN65
GRS2000/30	40000	2850	44	75	DN150	DN125
GRS2000/50	60000	2000	44	160	DN200	DN150